等離子體產生方式
等離子體產生方式有很多種,例如氣體放電、射線輻射、光電離、激光和熱電離等。其中氣體放電是最容易實現、應用最廣泛的產生方式。氣體放電的等離子體因電場和頻率的不同,具有不同特性,所產生的等離子體可用于等離子清洗、刻蝕和表面改性。氣體放電按電場頻率區分,分為直流放電、低頻放電、高頻放電、微波放電等多種類型。
以上四種等離子產生方式是目前工業應用中最常見的,根據不同的等離子特性應用于不同場合。就清洗應用而言,直流輝光放電等離子密度低、效率低,且容易產生二次濺射污染;微波放電等離子性能最佳,但設備結構復雜、制造和使用成本高;射頻放電方式介于兩者之間,離子能量和密度比直流輝光放電高,且等離子穩定,而成本與微波放電裝置相比更低,設備結構更簡單,因此射頻放電是等離子清洗設備的最佳產生方式。